[发明专利]曝光机有效
| 申请号： | 201910948431.3 | 申请日： | 2019-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN110764370B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 许俊安;王维;丁仁义;熊定;冯超;安齐全 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 汪阮磊 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；光罩平台放置在光罩导轨上，用于承载光罩；转移构件用于转移光罩；静电消除构件用于在转移构件转移光罩时，消除光罩因脱离光罩平台所产生的静电；控制装置用于在满足预定条件时，控制静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机，其特征在于，所述曝光机设备包括：/n光罩导轨，包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；/n光罩平台，放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；/n转移构件，用于转移所述光罩；/n静电消除构件，用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；/n控制装置，用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。/n
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