[发明专利]用于处理基板的设备和方法有效
| 申请号： | 201910949255.5 | 申请日： | 2019-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN111009455B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 沈在搏;任英宰 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 杨黎峰;张玫 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于处理基板的设备。所述设备包括：腔室，在所述腔室中具有空间，所述基板在所述空间中被处理；支撑单元，所述支撑单元在所述腔室中支撑所述基板；气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应到所述腔室中；以及等离子体生成单元，所述等离子体生成单元将所述腔室内的气体激发成等离子体状态。所述支撑单元包括：支撑板，在其上放置所述基板；高频电源，所述高频电源向所述支撑板供应高频功率；以及高频传输线，所述高频功率通过所述高频传输线从所述高频电源供应到所述支撑板。所述高频传输线的特性阻抗是可变的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
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