[发明专利]关键尺寸扫描电子显微镜机台的校准方法有效
| 申请号： | 201910952699.4 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112629461B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 李卫 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/04 | 分类号： | G01B21/04;G01B15/00 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 虞凌霄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种CDSEM机台的校准方法。包括：提供校准晶圆；在晶圆上选取N个图形区域组成第一测试图形,在晶圆上剩余的图形区域中选取L个图形区域组成第二测试图形,使用第一CDSEM机台和第二CDSEM机台分别测试第一测试图形和第二测试图形后得到CD平均值，根据CD平均值判断第一CDSEM机台与第二CDSEM机台是否匹配；其中，第一测试图形最外围图形区域的连线围成的区域与第二测试图形最外围图形区域的连线围成的区域存在交叠区域。通过选取最外围图形区域的连线围成的区域存在交叠区域的第一测试图形和第二测试图形，减少了制程条件的变异造成的数据不可用性，增加了机台匹配数据的真实性。 | ||
| 搜索关键词： | 关键 尺寸 扫描 电子显微镜 机台 校准 方法 | ||
【主权项】：
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