[发明专利]一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂及其制备方法有效
| 申请号： | 201910954317.1 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN110734520B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 马潇;陈鹏;樊丹;周浩杰;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司;江苏南大光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F220/32;C08F220/44;G03F7/004 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 王玉国 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波市北仑区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明适用于电路制造材料技术领域，提供了一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂及其制备方法。该ArF光刻胶树脂含有如下按重量百分比计的组分：10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0％～25％非极性单体和0％～15％腈基单体。本发明引入腈基结构，可以增加树脂与基材表面的作用力，增加黏附性，且腈基与硅烷偶联剂不同，不会与基材表面分子形成化学键。因此，在显影过程中可轻松去除，不会产生残留。使用本发明的ArF光刻胶树脂制备的光刻胶具有优异的黏附性，曝光区内的光刻胶没有残留，减小了光刻图形缺陷，提升了产品良率，光刻图形没有出现倒胶和剥离现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 黏附 arf 光刻 树脂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂，其特征在于，含有如下按重量百分比计的组分：10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0％～25％非极性单体和0％～15％腈基单体；/n所述腈基单体具有如下结构：/n
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