[发明专利]垂直共振腔面射型激光装置在审
| 申请号： | 201910954613.1 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112652943A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 范纲维;林昱成;洪崇瑜 | 申请（专利权）人： | 隆达电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/02 | 分类号： | H01S5/02;H01S5/042;H01S5/183 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种垂直共振腔面射型激光装置包含一半导体基材、一电流传导层、N型与P型布拉格反射层、主动发光层、电流限制层。N型布拉格反射层接触电流转换层。电流限制层位于主动发光层与P型布拉格反射层之间，电流限制层具有一电流限位孔。金属层具有一通孔对准电流限位孔。P型焊垫的一部分对准于电流限位孔与通孔。N型焊垫欧姆接触于电流转换层，P型、N型焊垫位于半导体基材的同一侧，金属层、P型焊垫与该N型焊垫各具有介于20微米到40微米之间的厚度，借以相对形成一应力释放系统。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 共振 腔面射型 激光 装置 | ||
【主权项】：
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