[发明专利]固态成像器件及固态成像器件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201910972850.0 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN110660819A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 桝田佳明;宫波勇树;阿部秀司;平野智之;山口征也;蛯子芳树;渡边一史;荻田知治 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/0203;H01L31/0232;H04N5/369;G02B1/118
代理公司: 11290 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 李晗;曹正建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及能够在抑制混色恶化的同时提高灵敏度的固态成像器件以及固态成像器件的制造方法电子装置。所述固态成像器件包括:半导体基板,具有接收入射光的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;第一沟槽和第二沟槽,设置在所述半导体基板的所述第一表面中;以及第一凹入结构和第二凹入结构,设置在所述第一沟槽和所述第二沟槽之间,并在所述半导体基板的所述第一表面中,所述第一凹入结构和所述第二凹入结构的深度比所述第一沟槽和所述第二沟槽的深度浅。本发明的技术可例如应用于背面照射型固态成像器件。
搜索关键词: 固态成像器件 凹入结构 第一表面 半导体基板 背面照射型 第二表面 电子装置 灵敏度 混色 恶化 应用 制造 收入
【主权项】:
1.一种固态成像器件,其包括:/n半导体基板,具有接收入射光的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;/n第一沟槽和第二沟槽,设置在所述半导体基板的所述第一表面中;以及/n第一凹入结构和第二凹入结构,设置在所述第一沟槽和所述第二沟槽之间,并在所述半导体基板的所述第一表面中,所述第一凹入结构和所述第二凹入结构的深度比所述第一沟槽和所述第二沟槽的深度浅,/n其中,所述半导体基板的第一平坦部设置在所述第一沟槽和所述第一凹入结构之间,/n其中,所述半导体基板的第二平坦部设置在所述第二沟槽和所述第二凹入结构之间,且/n其中,所述半导体基板的第三平坦部设置在所述第一凹入结构和所述第二凹入结构之间,所述第三平坦部在剖视图上与所述第一平坦部和所述第二平坦部平行。/n
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