[发明专利]图案形成方法在审
| 申请号： | 201910977728.2 | 申请日： | 2013-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN110673447A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 山中司;川本崇司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/32;B65D85/00;B65D25/14 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明可提供一种使用化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的图案形成方法，尤其在使用有机系显影液来形成微细化(例如30nm节点以下)图案的负型图案形成方法中，可减少微粒的产生。一种使用化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的图案形成方法，上述化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的碳数22以下的烷基烯烃含量为1ppm以下，且Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的金属元素浓度均为5ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 显影液 有机系 化学增幅型抗蚀剂 图案化 图案形成 烷基 负型图案 金属元素 微细化 碳数 烯烃 图案 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，包括：/n(A)通过将化学增幅型抗蚀剂组合物涂布于基板，由所述化学增幅型抗蚀剂组合物形成膜的工序；/n(B)对所述膜进行图案曝光的工序；以及/n(C)使用有机系显影液对经图案曝光的所述膜进行显影的工序；并且/n所述有机系显影液的碳数22以下的烷基烯烃含量为1ppm以下，且Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的金属元素浓度均为5ppm以下，/n所述有机显影液在显影前保存于容器，所述容器具有与所述有机显影液接触的内璧，所述内璧是由全氟树脂所形成，/n所述有机显影液在所述显影的工序(C)之前以聚四氟乙烯过滤器进行过滤。/n
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