[发明专利]片内参考电流产生电路在审

专利信息
申请号: 201910981700.6 申请日: 2019-10-16
公开(公告)号: CN112667022A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 季汝敏;应战 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G05F3/26 分类号: G05F3/26
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;高翠花
地址: 230001 安徽省合肥市蜀山*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种片内参考电流产生电路,用以供应至少一参考电流给至少一负载,所述片内参考电流产生电路包括:晶体管;运算放大单元,其正输入端输入一参考电压,负输入端耦接所述晶体管的源极,输出端耦接所述晶体管的栅极;第一下拉电阻单元,耦接于所述晶体管的源极与接地之间,所述第一下拉电阻单元为经过ZQ校准电路校准的电阻单元;电流镜单元,耦接于所述晶体管的漏极与电源电压之间,用于将产生的电流输出供所述负载使用。本发明的优点在于,片内参考电流产生电路能够提供稳定的参考电流。
搜索关键词: 参考 电流 产生 电路
【主权项】:
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