[发明专利]掩模检查装置和方法、以及包括该方法的制造掩模的方法

摘要

本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。