[发明专利]离子源室及设备在审
| 申请号： | 201910992233.7 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN112687506A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 蒋明亮 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及一种离子源室及设备，离子源室包括：相对的第一电极和第二电极；其中，所述离子源室处于工作状态时，所述第一电极的电位高于所述第二电极的电位；具有第一镂空区的第一侧板，所述第一电极位于所述第一镂空区内，所述第一电极与所述第一侧板绝缘。本发明能够提高离子源室的安全性能，降低维护保养成本。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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