[发明专利]一种镜片沉积金刚石薄膜的装置及方法

摘要

本发明提供了一种镜片沉积金刚石薄膜的装置及方法，包括反应室、等离子体发生器、电源，所述反应室两侧安装有真空计和三号阀门，所述反应室底部固定安装有排气阀和加热板，所述加热板顶部设置有基片，所述加热板底部与电源通过导线相连，所述电源与等离子体发生器通过导线相连，所述等离子体发生器固定安装在反应室顶部；本发明的有益效果：通过电容式射频辉光放电等离子体化学气相沉积方法，在较低的温度下可达到高沉积速率，解决了传统方法中高温镀膜的问题，等离子体发生器可产生稳定等离子体，提高镀膜的均匀性，采用对基片表面洁净、活化，并且控制样品制备工艺条件，提高了镜片镀膜的附着性能。

主权项

1.一种镜片沉积金刚石薄膜的装置，包括反应室(1)、等离子体发生器(2)、流量计(3)、一号阀门(4)、氩气瓶(5)、二号阀门(6)、甲烷气体瓶(7)、三号阀门(8)、真空泵(9)、排气阀(10)、真空计(11)、基片(12)、加热板(13)、电源(14)，其特征在于：所述反应室(1)两侧安装有真空计(11)和三号阀门(8)，所述三号阀门(8)与真空泵(9)通过导管相连，所述反应室(1)底部固定安装有排气阀(10)和加热板(13)，所述加热板(13)顶部设置有基片(12)，所述加热板(13)底部与电源(14)通过导线相连，所述电源(14)与等离子体发生器(2)通过导线相连，所述等离子体发生器(2)固定安装在反应室(1)顶部，所述等离子体发生器(2)与流量计(3)通过导管相连，所述流量计(3)通过导管相连分别与一号阀门(4)和二号阀门(6)相连，所述一号阀门(4)与氩气瓶(5)通过导管相连，所述二号阀门(6)与甲烷气体瓶(7)通过导管相连。/n