[发明专利]一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及其方法在审
| 申请号： | 201911000909.6 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112768330A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 王凯麟;倪图强;左涛涛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置，包含腔体和衬套，所述衬套上方设有介电窗，所述腔体、衬套和介电窗围绕形成反应腔；所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置；所述衬套一侧的侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套外设有一遮挡板，用于对所述开口进行密封；所述腔体内还设置与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口。本发明还提供一种防止反应气体泄露的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 反应 气体 泄露 等离子体 处理 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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