[发明专利]一种CVD金刚石散射片在审
| 申请号： | 201911001803.8 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112698460A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 蒋荣方;刘宏明;王骏;赵芬霞 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/00 | 分类号： | G02B7/00;G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 任娜娜 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CVD金刚石散热片装置，包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置固接设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽设于金刚石散射片外框上，所述水冷循环管道一端接于水冷下水槽侧面，另一端接于水冷上水槽侧面，所述散热铜管设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成。本发明属于光学与光学工程领域，具体是指一种有效提高散热片阈值的CVD金刚石散热片装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 金刚石 散射 | ||
【主权项】：
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