[发明专利]抛光垫及其制备方法、化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201911006629.6 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110614580B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 郭宇轩;赵晟佑 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抛光垫及其制备方法、化学机械研磨设备，属于半导体技术领域。抛光垫的制备方法包括：制备抛光垫过渡结构，所述抛光垫过渡结构形成有多个凹槽，所述多个凹槽的开口位于所述抛光垫过渡结构的同一侧表面；利用无机纳米粒子填充满所述抛光垫过渡结构的凹槽；在所述抛光垫过渡结构上浇筑液态聚合物与固化剂的混合物，抽去液态聚合物和所述凹槽内的空气；将所述抛光垫过渡结构置于高于等于第一温度阈值的环境中，固化后的液态聚合物与所述抛光垫过渡结构组成所述抛光垫。本发明能够降低抛光垫的热膨胀系数。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制备 方法 化学 机械 研磨 设备 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫的制备方法，其特征在于，包括：/n制备抛光垫过渡结构，所述抛光垫过渡结构形成有多个凹槽，所述多个凹槽的开口位于所述抛光垫过渡结构的同一侧表面；/n利用无机纳米粒子填充满所述抛光垫过渡结构的凹槽；/n在所述抛光垫过渡结构上浇筑液态聚合物与固化剂的混合物，抽去液态聚合物和所述凹槽内的空气；/n将所述抛光垫过渡结构置于高于等于第一温度阈值的环境中，固化后的液态聚合物与所述抛光垫过渡结构组成所述抛光垫。/n
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