[发明专利]一种大尺寸单晶金刚石的抛光方法有效
| 申请号： | 201911010813.8 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110774153B | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 陆静;肖平;徐西鹏;王艳辉;罗求发 | 申请（专利权）人： | 华侨大学 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B1/00 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张松亭;姜谧 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大尺寸单晶金刚石的抛光方法，大尺寸金刚石表层的碳原子在硬质磨料的机械剪切作用下，发生晶格畸变，产生非晶碳层；随后由于磨粒与金刚石在高速摩擦下产生局部高温，反应磨料与金刚石表面的非晶碳发生化学反应，以达到快速去除金刚石表层碳原子的目的。本发明能实现金刚石的高效超精密抛光，达到纳米级的表面粗糙度，并且不会对金刚石表面造成损伤。本发明属于柔性抛光方法，适合大尺寸单晶金刚石的超精密抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 金刚石 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种大尺寸单晶金刚石的抛光方法，其特征在于包括如下步骤：/n(1)将硬质磨料、反应磨料和结合剂混合均匀，以形成均匀分散料，其中硬质磨料、反应磨料和结合剂的质量百分比依次为0.5-10％、0.5-10％和80-99％；/n(2)将具有多孔特征的柔性基材平铺于模具中，再倒入上述均匀分散料，完全浸没该柔性基材，依靠重力流平，待结合剂完全固化后，得到柔性抛光垫；/n(3)用步骤(2)所得的柔性抛光垫在润湿液的辅助下对大尺寸单晶金刚石进行抛光0.5-5h，其中，柔性抛光垫与大尺寸单晶金刚石的相对线速度为40-60m/s，柔性抛光垫与大尺寸单晶金刚石之间的压强为10-500KPa，上述抛光方法的材料去除过程包括：大尺寸金刚石表层的碳原子在硬质磨料的机械剪切作用下，发生晶格畸变，产生非晶碳层；随后由于磨粒与金刚石在高速摩擦下产生局部高温，反应磨料与金刚石表面的非晶碳发生化学反应，以达到快速去除金刚石表层碳原子的目的。/n
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