[发明专利]一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法有效
| 申请号： | 201911022152.0 | 申请日： | 2019-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN110736959B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 任仕伟;王贵愚;高巍 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01S3/14 | 分类号： | G01S3/14;G01S3/782;G01S3/802 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法，主要解决现有技术中平面互质阵列自由度受限于仅利用差分协同阵的问题，以及和差协同阵的研究局限于一维线性阵列的问题，通过压缩平面互质阵列其中一个子阵的阵元间距，并重新设置两个子阵的相对位置，使其纵向排布且呈左右对称并相隔一定距离。以本发明的方法构建的平面互质阵列，最终形成的差分协同阵与和协同阵能够拼接成一个和差协同阵，该和差协同阵包含一个大面积的均匀间距虚拟矩形面阵。与传统平面互质阵列的差分协同阵相比，本发明的方法大幅度提高了阵列的自由度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 协同 构建 平面 阵列 设计 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法，其特征在于，它包括步骤如下：/n步骤1、确定平面互质阵列的基本参数；选取一对互质的自然数M
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