[发明专利]一种Si衬底GaSe可见光探测器及制备方法在审

专利信息
申请号: 201911022490.4 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN110690311A 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 王文樑;李国强;杨昱辉;孔德麒 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/18
代理公司: 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人: 王东东
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种Si衬底GaSe可见光探测器及制备方法,包括Si衬底,所述Si衬底的上表面依次设置低温PLD生长的第一GaSe功能层及高温PLD生长的第二GaSe功能层,所述第一GaSe功能层及第二GaSe功能层的厚度相同,所述第二GaSe功能层上表面的两端连接Ti/Ni/Au金属层电极。本发明有效降低表面对可见光光的反射损耗,增强可见光光谐振吸收,实现高灵敏度高带宽探测。
搜索关键词: 功能层 衬底 上表面 可见光探测器 金属层电极 反射损耗 高灵敏度 谐振吸收 依次设置 生长 高带宽 制备 探测
【主权项】:
1.一种Si衬底GaSe可见光探测器,其特征在于,包括Si衬底,所述Si衬底的上表面依次设置低温PLD生长的第一GaSe功能层及高温PLD生长的第二GaSe功能层,所述第一GaSe功能层及第二GaSe功能层的厚度相同,所述第二GaSe功能层上表面的两端连接Ti/Ni/Au金属层电极。/n
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