[发明专利]防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置在审
| 申请号： | 201911025180.8 | 申请日： | 2019-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN111103756A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 滨田裕一 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置，将以粘着层(14)粘着于曝光原板(1)的防尘薄膜组件(10)从曝光原板(1)剥离；该组件(10)具有：防尘薄膜(12)，通过防尘薄膜用接着剂(13)张设于防尘薄膜框架(11)的一侧的端面；粘着层(14)，设置于防尘薄膜框架(11)的另一侧的端面。在设置于防尘薄膜框架外侧面的治具孔(30)插入防尘薄膜框架支持销(21)，使支持销(21)朝向粘着层(14)从曝光原板(1)剥离的方向移动，此时，测量作用在支持销(21)的剥离力，并在进行控制以使该剥离力降至最小的状况下，将组件(10)从曝光原板(1)剥离。由此，可在将防尘薄膜组件从曝光原板剥离时，减少残留于曝光原板上的残渣，并可在柔和的清洗条件下实施曝光原板的再清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 剥离 方法 装置 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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