[发明专利]一种光学制件均匀性干涉检测方法有效
| 申请号： | 201911028089.1 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN110687075B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 周华民;周晓伟;张云;余文劼;李茂源;邓天正雄;黄志高 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于光学制件均匀性检测技术领域，并具体公开了一种光学制件均匀性干涉检测方法，其包括如下步骤：S1激光束经分束器分为测试光束和普通光束，测试光束通过装有与待测光学制件材料的折射率相同的折射率匹配溶液的透明槽后，与普通光束发生干涉形成相干光束；S2将待测光学制件浸入折射率匹配溶液中，再次进行干涉形成相干光束；S3由浸入待测光学制件前后的相干光束的干涉条纹数得到待测光学制件的折射率偏差，即可得到待测光学制件的均匀性情况。本发明结合干涉技术与折射率匹配装置，并对光路进行设计，完成光学制件的均匀性检测，为复杂面形光学制件的折射率均匀性检测提供了一种效率高、准确度高、可行性强的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 制件 均匀 干涉 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1激光束经分束器(3)分为测试光束和普通光束，所述测试光束通过装有折射率匹配溶液(7)的透明槽(6)后，与普通光束发生干涉形成相干光束，该相干光束的干涉条纹数为N
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