[发明专利]改善激光发射源的方法、激光发射源以及光刻系统在审
| 申请号： | 201911032297.9 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN110729625A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 申亚军;尹鹏腾 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/036 | 分类号： | H01S3/036;H01S3/03;H01S3/032;G03F7/20 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善激光发射源的方法、激光发射源以及光刻系统，所述改善激光发射源的方法包括：提供一放电腔，放电腔内通入有气体，对放电腔施加一激光发射电压以及一脉冲电压，使得气体放电，产生激光。本发明具有缩短起辉时间，提高气体的利用率的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 激光发射源 放电腔 光刻系统 激光发射 脉冲电压 气体放电 起辉 激光 施加 | ||
【主权项】：
1.一种改善激光发射源的方法，其特征在于，包括：提供一放电腔，所述放电腔内通入有气体，对所述放电腔施加一激光发射电压以及一脉冲电压，使得所述气体放电，产生激光。/n
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