[发明专利]一种腐蚀液及芯片台面的制备方法有效
| 申请号： | 201911032371.7 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN111303883B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 邹颜;杨彦伟;刘宏亮;陆一锋 | 申请（专利权）人： | 芯思杰技术（深圳）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/04 | 分类号： | C09K13/04;H01L21/306;H01L21/308;H01L31/18 |
| 代理公司： | 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 | 代理人： | 李雪鹃 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种腐蚀液及芯片台面的制备方法，涉及半导体芯片制备领域。腐蚀液，包括：溶剂和溶于所述溶剂中的重铬酸盐和卤酸。利用该腐蚀液能够解决现有芯片采用IPC干法刻蚀造成的刻蚀速率不均、刻蚀表面粗糙且刻蚀成本高的问题，使刻蚀速率更均匀，降低刻蚀成本，提高表面刻蚀质量的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 腐蚀 芯片 台面 制备 方法 | ||
【主权项】：
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