[发明专利]曝光装置以及物品制造方法有效
| 申请号： | 201911033882.0 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN111103765B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 冈田隆;水元一史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光装置以及物品制造方法。提供在使底板或者基板相对于投影光学系统的像面倾斜地对基板进行扫描曝光的曝光装置中对于得到扩大的焦点深度有利的技术。曝光装置具有对原版进行照明的照明光学系统以及将所述原版的图案投影到基板的投影光学系统，所述曝光装置在使所述原版或者所述基板相对于所述投影光学系统的像面倾斜的状态下，一边对所述原版以及所述基板进行扫描，一边对所述基板进行曝光。曝光装置具有：调整部，调整所述原版或者所述基板相对于所述像面的倾斜；以及控制部，控制所述调整部，所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍摄区域上的潜像的错误变小的方式决定的方向倾斜。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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