[发明专利]一种磁控溅射机台有效
| 申请号： | 201911037058.2 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112725747B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;胡凡;陈庆广;范江华;彭浩 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射机台，包括缓存腔、传送腔、以及设于缓存腔和传送腔之间的过渡腔，所述过渡腔内设有冷却台以及与冷却台同轴布置的双层片架，过渡腔靠近缓存腔和传送腔的侧壁上均设有传片通道，所述传片通道的高度大于冷却台台面的高度，所述双层片架连接有升降驱动机构，所述升降驱动机构与所述过渡腔之间密封配合。本发明具有结构简单、成本低，能够实现缓存腔和传送腔之间的互联，并保证传送效率等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 机台 | ||
【主权项】：
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