[发明专利]一种具有浮岛结构的沟槽型垂直氮化镓功率器件在审
申请号: | 201911038543.1 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN112750890A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 王中健;肖兵;梁欢;黄肖艳 | 申请(专利权)人: | 季优科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/20;H01L29/78 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 冯华 |
地址: | 201899 上海市嘉定区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及宽禁带功率电子器件技术领域,具体为一种具有浮岛结构的沟槽型垂直氮化镓功率器件,包括Body电极和外壳体,所述外壳体的顶端设置有沟槽,所述沟槽的内侧壁固定连接栅金属,所述栅金属的内侧设置有栅介质,所述外壳体的内腔自下而上晶片结构依次设置N+衬底、N型漂移区、P型层和N+掺杂层,所述P型层与N+掺杂层对称设置有两组,所述N型漂移区的内侧对称设置P型浮岛,所述外壳体的顶侧两端对称固定连接源漏电极,本发明实现在N型漂移区引入两个对称P型浮岛,有利于避免沟槽底部拐角处栅介质处的电场聚集效应,电场强度因P型浮岛的存在而减小,达到了抑制栅介质击穿引起的器件击穿现象,有利于提高击穿电压。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 结构 沟槽 垂直 氮化 功率 器件 | ||
【主权项】:
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