[发明专利]用于物理气相沉积的设备以及形成膜层的方法在审
| 申请号： | 201911043735.1 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111118457A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 陈信良;王文志;廖家宏;陈振杰;叶奕铭;林泓霆;李永尧 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李春秀 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例涉及用于物理气相沉积的设备以及形成膜层的方法。本发明实施例提供一种用于PVD的设备。所述设备包含：腔室；基座，其安置于所述腔室中以容纳晶片；及环。所述环包含：环主体，其具有第一顶表面及第二顶表面；及屏障结构，其安置于所述第一顶表面与所述第二顶表面之间。所述屏障结构可进一步包含彼此分离的至少第一部分及第二部分。第二垂直距离等于或大于第一垂直距离。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 物理 沉积 设备 以及 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911043735.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无线通信方法及相关装置
- 下一篇：一种高效率暗弱空间目标识别方法
- 同类专利
- 专利分类
