[发明专利]微影图案化的方法在审
| 申请号： | 201911044481.5 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111123652A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 欧阳盼盼 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据一些实施例，本公开实施例提供一种微影图案化的方法。此方法包括：形成光阻层于基底上方；执行渗透制程将金属化合物引入此光阻层以增强此光阻层对极紫外光辐射的敏感度；使用此极紫外光辐射对此光阻层执行曝光制程；以及对此光阻层执行显影制程以形成图案化阻抗层。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911044481.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
