[发明专利]一种数字曝光机及其曝光控制方法有效
| 申请号： | 201911047306.1 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110780546B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王志冲;李付强;刘鹏;冯京;栾兴龙;袁广才;董学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种数字曝光机及其曝光控制方法，涉及曝光技术领域，采用该方法可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，减轻周期性MURA现象。一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，该方法包括：从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。本发明适用于显示基板的曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 数字 曝光 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，其特征在于，所述曝光控制方法包括：/n从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。/n
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