[发明专利]用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备在审
申请号: | 201911052715.0 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN110616419A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 李晔纯;成秋云;罗志敏;张弥涛 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/458 |
代理公司: | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,包括六轴插取片机器人和硅片过渡传输导轨,还包括三个立式镀膜反应柜,三个立式镀膜反应柜围成C形区域,硅片过渡传输导轨设于C形区域的开口处,六轴插取片机器人设于C形区域内。该用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备布局合理、集约程度高、生产效率高以及生产成本低。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 传输导轨 光伏电池 反应柜 硅片 六轴 取片 机器人 生产成本低 生产效率 开口处 | ||
【主权项】:
1.一种用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,包括六轴插取片机器人(1)和硅片过渡传输导轨(2),其特征在于:还包括三个立式镀膜反应柜(3),三个所述立式镀膜反应柜(3)围成C形区域,所述硅片过渡传输导轨(2)设于C形区域的开口处,所述六轴插取片机器人(1)设于C形区域内。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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