[发明专利]掩膜版及其制备方法有效
| 申请号： | 201911056446.5 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN110629159B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 黄琰;梁少端;嵇凤丽;张国梦 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括版体，所述版体设置有检测开口，以及用于平衡所述检测开口所受拉伸应力的平衡图案，所述平衡图案与所述检测开口分别位于所述版体沿第一方向长度的中心线的两侧，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直；该掩膜版拉伸后变形均匀，能够提高掩膜版对位精度稳定性，避免蒸镀过程中因掩膜版对位精度变差造成的蒸镀偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括版体，所述版体设置有检测开口，以及用于平衡所述检测开口所受拉伸应力的平衡图案，所述平衡图案与所述检测开口分别位于所述版体沿第一方向长度的中心线的两侧，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直。/n
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