[发明专利]一种高效FOLED及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911069592.1 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN110797469A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 陈亮;雒玉蓉;金尚忠;徐时清;沈洋;张淑琴;黄帅;方强龙;何坤;杨茹;张振 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50
代理公司: 33333 杭州杭欣专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 潘欣欣
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种高效FOLED及其制备方法,包括PET基板、ITO基底、以及依次叠于缓冲层之上的空穴注入层、空穴传输层、超薄发光层、电子传输层、电子注入层和阴极,所述空穴注入层是一种K掺杂NiO(KNO),所述空穴传输层为NPB,厚度为60nm,所述超薄发光层为CBP:4CzIPN,掺杂浓度约为5wt%,厚度为30nm,所述电子传输层为TPBi,厚度为10nm,所述电子注入层为LiF,厚度为1nm,所述阴极的材料为高纯度金属Al,厚度为100nm,所述K掺杂NiO粉末是采用1273K在空气中烧结4h制备。该高效FOLED掺K的NiO薄膜比ITO薄膜更光滑,接触性能更好,提高了孔的注入效率,阳极功函数得到了增强,其中空穴传输层和电子传输层的厚度是目前在亮度和弯曲耐久性方面权衡后最适合的,可以使FOLED设计达到最佳性能。
搜索关键词: 电子传输层 空穴传输层 阴极 电子注入层 空穴注入层 掺杂 发光层 制备 高纯度金属 弯曲耐久性 阳极功函数 接触性能 注入效率 最佳性能 烧结 缓冲层 基底 光滑 薄膜
【主权项】:
1.一种高效FOLED,其特征在于:包括PET基板、ITO基底、以及依次叠于缓冲层之上的空穴注入层、空穴传输层、超薄发光层、电子传输层、电子注入层和阴极。/n
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