[发明专利]用于真空蒸发系统的蒸发装置、用于沉积材料膜的设备和方法在审

专利信息
申请号: 201911078757.1 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN111139436A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: Y·卢梭;J-L·居约克斯;F·施特梅伦 申请(专利权)人: 瑞必尔
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 牛晓玲;吴鹏
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种蒸发装置,该蒸发装置包括蒸发室,该蒸发室包括加热装置和坩埚,该坩埚具有上部开口端和下部的封闭底部,旨在接收负载,该蒸发装置适于通过负载材料的蒸发或升华来产生气相材料流。根据本发明,该蒸发装置包括过滤插入件,该过滤插入件包括上部部件(20)和下部部件(21),该上部部件具有锥形开口(11),旨在布置于坩埚的开口端,该下部部件从上至下包括具有至少一个开口(130)的板(13)和一个格栅(14),下部部件(21)旨在于上部部件(20)与负载之间布置在坩埚中。本发明还涉及一种用于在衬底上沉积材料膜的设备和方法。
搜索关键词: 用于 真空 蒸发 系统 装置 沉积 材料 设备 方法
【主权项】:
暂无信息
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