[发明专利]一种测试正性光刻胶感度的方法在审
| 申请号： | 201911086054.3 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN112378907A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 马阳阳;张月;张东宏 | 申请（专利权）人： | 陕西彩虹新材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京卓特专利代理事务所(普通合伙) 11572 | 代理人： | 段宇 |
| 地址： | 712021 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明揭示了一种测试正性光刻胶感度的方法，将正性光刻胶样品和标准品进行涂膜、曝光及显影后读取硅片上的开点数，并计算可得到正性光刻胶的Eth值。包括以下步骤：S1)、在涂膜显影机中设置不同转速，对光刻的胶样品以及标准品进行涂膜，并控制样品与标准品的膜厚差在± |
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| 搜索关键词： | 一种 测试 光刻 胶感度 方法 | ||
【主权项】：
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