[发明专利]一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液在审
| 申请号： | 201911088498.0 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN110878208A | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 李少平;张庭;郝晓斌;贺兆波;冯凯;王书萍;尹印;万杨阳;张演哲 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，其蚀刻液的主要成分包括占蚀刻液总重量≥88%的磷酸、0.01‑10%的醇醚类、0.001‑2%的表面活性剂。本蚀刻液中的醇醚类能够改善蚀刻液的浸润性，表面活性剂能够降低蚀刻液的表面张力。相对传统的仅使用磷酸作为蚀刻液相比，本发明中的蚀刻液浸润性优、表面张力低，对氮化硅层具有低接触角，可明显提高蚀刻液对氮化硅层的润湿性和蚀刻均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 氮化 蚀刻 均匀 酸性 | ||
【主权项】：
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