[发明专利]光罩及曝光设备在审
| 申请号： | 201911092135.4 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN112782930A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 许航嘉;李启东;许建勇 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/40 | 分类号： | G03F1/40 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种光罩及曝光设备。该光罩包括：相对设置的第一基板和第二基板。第一基板在背对第二基板的一侧设有第一图案层，第二基板在背对第一基板的一侧设有第二图案层，第一图案层和第二图案层用于使待光刻物形成光刻图案。本申请通过对光罩的第一图案层和第二图案层的结构调整，使得光罩的第一图案层和第二图案层不容易积累静电，以降低第一图案层和第二图案层被击穿的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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