[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法及金属图案的形成方法有效
| 申请号： | 201911099894.3 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN111172541B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 金炼卓;金镇成;南基龙;刘仁浩 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;C23F1/02;C09K13/06;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法及金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物，其包含：(A)硝酸；(B‑1)烷基磺酸；(B‑2)烷基磺酸以外的有机酸；(C)金属、金属盐和硫酸中的一种以上；(D)硫酸盐；和(E)水。本发明提供显著改善残渣(例如，银残渣和/或透明导电膜残渣等)及银再吸附问题的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 蚀刻 组合 方法 金属 图案 形成 | ||
【主权项】：
暂无信息
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