[发明专利]内埋元件封装结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201911100304.4 申请日: 2019-11-12
公开(公告)号: CN112466833A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 陈建泛;廖玉茹 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/485;H01L21/52;H01L21/60
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种内埋元件封装结构及其制造方法。内埋元件封装结构包括一介电结构、一半导体芯片以及一图案化导电层。半导体芯片内埋于介电结构中,介电结构包覆半导体芯片且具有一第一厚度,半导体芯片具有一第二厚度,第一厚度大于第二厚度,且第一厚度与第二厚度的比值介于1.1~28.4之间。图案化导电层覆盖介电结构的一上表面并延伸于介电结构的一第一开孔中,第一开孔露出半导体芯片的一电性接垫,图案化导电层与半导体芯片的电性接垫电性连接。
搜索关键词: 元件 封装 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911100304.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top