[发明专利]由废蚀刻剂制备精制磷酸的方法在审
申请号: | 201911100421.0 | 申请日: | 2019-11-12 |
公开(公告)号: | CN111170293A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 金容宇;金东珍;具炳秀 | 申请(专利权)人: | 株式会社东进世美肯 |
主分类号: | C01B25/234 | 分类号: | C01B25/234;C01B25/238 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金成哲;宋海花 |
地址: | 韩国仁*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种由废蚀刻剂制备精制磷酸的方法,所述废蚀刻剂在制备半导体或液晶显示器时用于蚀刻工序。所述精制磷酸的制备方法,包括:蒸馏包含金属离子、磷酸及水的蚀刻剂废液,得到经浓缩的磷酸水溶液的步骤;将包含钾离子的固态无机盐与所述经浓缩的磷酸水溶液混合的步骤;在所述磷酸水溶液中混合溶解磷酸但不溶解无机盐的有机不良溶剂,使所述无机盐晶体沉淀,同时使所述金属离子共沉淀的步骤;过滤并去除包含所述金属离子的无机盐晶体的步骤;以及蒸发通过所述过滤获得的滤液中的有机不良溶剂和水,以获得包含钾离子的磷酸的步骤。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 制备 精制 磷酸 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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