[发明专利]一种X射线曝光控制系统及其控制方法在审
| 申请号： | 201911100907.4 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN110811654A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 武紫阳;念凌宇;高阳阳;朱忠明 | 申请（专利权）人： | 飞瑞医疗器械（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 314006 浙江省嘉兴市南湖区大桥*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线曝光控制系统及其控制方法，所述X射线曝光控制系统至少包括：深度相机，用于采集深度图像；X光发生器，基于曝光剂量参数产生X射线并执行曝光；限束器，对X射线执行束光功能；工作站，分别与所述深度相机、X光发生器以及限束器连接，基于所述深度图像控制所述X光发生器的曝光剂量及所述限束器的光束大小。本发明的X射线曝光控制系统，通过将深度相机集成到X射线曝光控制系统上，从而实现曝光范围和曝光剂量的自动调节，大大提升工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 曝光 控制系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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