[发明专利]嵌入N通道金属氧化半导体触发式硅控整流装置有效

专利信息
申请号: 201911107326.3 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN111048507B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 林昆贤;陈子平;庄哲豪;杨敦智 申请(专利权)人: 晶焱科技股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/74
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 侯奇慧
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种嵌入N通道金属氧化半导体触发式硅控整流装置,其包含一P型基板、至少一整流区域和至少一触发器。整流区域包括一第一N型重掺杂区、一N型井区和一第一P型重掺杂区。或者,硅控整流装置包括一N型基板、一第一P型井区、至少一整流区域和至少一触发器。整流区域包括一第二P型井区、一第一N型重掺杂区和一第一P型重掺杂区。触发器与P型基板或第一P型井区形成至少一个N通道金氧半场效晶体管。触发器独立于整流区。第一P型重掺杂区位于在触发器和第一N型重掺杂区之间。
搜索关键词: 嵌入 通道 金属 氧化 半导体 触发 式硅控 整流 装置
【主权项】:
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