[发明专利]外延层厚度测试装置和方法有效
| 申请号： | 201911107836.0 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN111174716B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张凌云;金柱炫 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 刘长春 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种外延层厚度测试装置和方法，所述装置包括红外光源、检测器、载物基座和控制模块，红外光源和检测器设置在载物基座的上方，待测外延片固定在载物基座上；控制模块用于控制载物基座进行预设轨迹运动，以使红外光源的入射光线照射到待测外延片的指定位置处，并使得入射光线通过待测外延片反射至检测器；检测器用于根据入射光线计算待测外延片的厚度。该外延层厚度测试装置和方法中的载物基座既能够做水平二维运动，也能够进行旋转运动，从而克服了红外光在试样边缘倒角处的能量逸散问题，确保可全面准确地测量外延片边缘区域的外延层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 厚度 测试 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司，未经西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911107836.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：变桨轴承装置
- 下一篇：图像处理方法、装置、计算机可读介质及电子设备
