[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201911108196.5 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN111326513B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 金志勋;金玄永;卞成洙;朴相荣 申请(专利权)人: 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 彭辉剑;龚慧惠
地址: 266000 山东省青岛市黄岛区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种半导体器件,所述半导体器件包括形成在基板的器件区域上方的电容器结构和缓冲层。所述电容器结构包括下电极,所述下电极具有U形轮廓,所述U形轮廓的开口远离所述基板,所述U形轮廓限定了内表面和相对的外表面。介电质衬层延伸进入所述U形轮廓并保形地覆盖所述下电极的内表面;所述上电极形成在所述介电质衬层上,延伸进入并填充到所述U形轮廓中,所述上电极包括顶部导电层。所述缓冲层形成在所述上电极的顶部导电层上,其中,所述缓冲层的晶格常数大于所述顶部导电层的晶格常数。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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