[发明专利]减反射复合膜及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及减反射膜领域，公开了减反射复合膜及其制备方法和应用。所述减反射复合膜包含依次层叠的A膜层、第二材料膜，所述A膜层包含连续交替层叠的SiO2膜、第一材料膜，SiO2膜、第一材料膜的连续交替层叠次数大于等于4，其中，第一材料膜的折射率为1.95‑2.41，厚度为12‑150nm；所述SiO2膜的折射率为1.45‑1.47，厚度为12‑200nm；第二材料膜的折射率为1.35‑1.39，厚度为90‑120nm。本发明所述的减反射复合膜不仅具有较强的宽光谱减反射效果，而且在膜系设计及膜料选择上充分考虑薄膜的应力匹配问题，使各膜层间具有较高的界面结合强度，延长产品的使用寿命。