[发明专利]沉积掩膜有效
| 申请号： | 201911112620.3 | 申请日： | 2015-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN110923622B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 卢健镐;曹守铉;黄周炫;金南昊;李相范;林正龙;韩太勋;文炳律;朴宰奭;孙晓源 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 黄霖;潘炜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及一种可适用于有机发光器件等的沉积工艺的掩膜结构，并且允许提供一种沉积掩膜，该沉积掩膜包括：第一表面和第二表面，该第一表面和第二表面在金属板的厚度方向正交并且彼此面对；以及多个单位孔，多个单位孔具有穿过第一表面和第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔，其中，基于在任选的单位孔之间的尺寸变化将在相邻单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔的尺寸变化控制在2％至10％之内，或者基于第一表面的表面将第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心彼此不重合的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【主权项】：
暂无信息
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