[发明专利]发光二极管以及发光二极管制备方法有效

专利信息
申请号: 201911119309.1 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN110707188B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 王晟 申请(专利权)人: 芜湖德豪润达光电科技有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/14;H01L33/12;H01L33/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 石慧
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供一种发光二极管以及发光二极管制备方法。AlN层可以提高能阶,阻挡电子溢流。掺镁InxAlyGa1‑x‑yN层可以缓解晶格匹配以及提高所述P型半导体层的能阶,进而更有利于空穴注入。所述掺镁InGaN层通过增加镁的含量可以提高空穴浓度。此时,通过每个子半导体层中AlN层、掺镁InxAlyGa1‑x‑yN层以及掺镁InGaN层可以保证晶格质量的同时提高Mg的有效活化,增加空穴浓度。同时,通过AlN层、掺镁InxAlyGa1‑x‑yN层以及掺镁InGaN层可以优化能阶,进而阻挡电子溢流的同时增加空穴浓度。从而,通过阻挡电子溢流的同时增加空穴浓度,可以提高外延良率和发光效率。
搜索关键词: 发光二极管 以及 制备 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管,其特征在于,包括:/n衬底(10);/n缓冲层(20)、氮化镓层(30)、N型半导体层(40)、应力释放层(50)以及多量子阱层(60),在所述衬底(10)表面依次层叠设置;/nP型半导体层(70),设置于所述多量子阱层(60)远离所述应力释放层(50)的表面;/n所述P型半导体层(70)包括多个子半导体层(710),所述多个子半导体层(710)层叠设置于所述多量子阱层(60)远离所述应力释放层(50)的表面;/n每个所述子半导体层(710)包括AlN层(711)、掺镁In
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芜湖德豪润达光电科技有限公司,未经芜湖德豪润达光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911119309.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top