[发明专利]硅基微显示屏及其制备方法

摘要

本发明提供了一种硅基微显示屏及其制备方法，所述制备方法包括以下步骤：提供硅基板，在硅基板上定义若干子像素区域，并在所述硅基板上各个子像素区域分别依次制备阳极层、OLED层、阴极层及第一保护层；刻蚀第一子像素区域的阴极层及保护层；等离子体轰击并去除暴露的OLED层；在阴极层、保护层及OLED层的侧面形成第二保护层；依次形成其他子像素；基于以上步骤的结果来加工形成硅基微显示屏。本发明将刻蚀及镀膜工艺置于真空环境下进行，防止OLED层被水汽和氧气入侵，延长硅基微显示屏的使用寿命。

主权项

1.一种硅基微显示屏制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：提供一硅基板，在硅基板上定义若干子像素区域，并在所述硅基板上各个子像素区域制备阳极层；/nS2：在所述子像素区域分别依次蒸镀OLED层、阴极层及第一保护层，以覆盖所述阳极层及硅基板；/nS3：采用黄光工艺及刻蚀工艺刻蚀第一子像素区域的阴极层及保护层；/nS4：等离子体轰击并去除暴露的OLED层；/nS5：在刻蚀后的阴极层、保护层及OLED层的侧面形成第二保护层，完成第一子像素的制作；/nS6：依次对其他子像素区域执行上述步骤S3至S5，直至形成各子像素；及/nS7：基于以上步骤的结果来加工形成硅基微显示屏。/n