[发明专利]一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺在审
| 申请号： | 201911127866.8 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110835089A | 公开（公告）日： | 2020-02-25 |
| 发明（设计）人： | 张明威 | 申请（专利权）人： | 苏州法曼斯缇新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 吕明哲 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其包括如下步骤：S1、通过计算机模拟设计出适合工程需要的超材料模型；S2、以模拟模型为参照，采用光刻胶甩出厚度为3~7um的底层保护膜；S3、在底层保护膜上做一层厚度为8~12nm金结构A；S4、采用光刻胶在金结构A上面甩出厚度为18~22um的薄膜A；S5、在薄膜A上做一层厚度为7~13nm金结构B；S6、采用光刻胶在金结构B上面甩出厚度为17~23um的薄膜B；S7、在薄膜B上做一层厚度为7~13nm金结构C；S8、通过光刻胶在金结构C上面甩出厚度为3~6um的顶层保护膜，从而得到超材料薄膜。本发明的超材料薄膜光学元器件，具有超薄、高效透射、多功能集成、工作频率宽等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 材料 薄膜 基底 悬空 多层 高精度 纳米 加工 工艺 | ||
【主权项】：
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