[发明专利]一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 201911128129.X | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110922897A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 孙韬 | 申请（专利权）人： | 宁波日晟新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 宁波知坤专利代理事务所(特殊普通合伙) 33312 | 代理人： | 朱玉泉 |
| 地址： | 315410 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，所述抛光液由以下重量份数的原料组成：可溶性有机硅聚合物3‑8重量份、用于稳定可溶性有机硅聚合物的有机小分子5‑15重量份、多氮有机分子增效剂0.5‑5重量份、pH值调节剂1‑5重量份和去离子水50‑80重量份。本发明的抛光液，只含有可溶性物质，且金属杂质含量超低，可以高效地降低含硅化合物表面雾值，同时保证硅化合物无表面损伤问题。本发明还公开了一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化合物 低雾值无 损伤 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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