[发明专利]形成环绕式栅极场效晶体管的方法在审

专利信息
申请号: 201911129705.2 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN111200064A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 堤姆斯·文森;马库斯琼斯亨利库斯·范达尔;荷尔本·朵尔伯斯 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种形成环绕式栅极场效晶体管的方法,包括以下步骤。形成环绕纳米碳管的通道部分的栅极结构。形成环绕纳米碳管的源极/漏极延伸部分的内部间隔物,源极/漏极延伸部分自纳米碳管的通道部分向外延伸。内部间隔物包括形成界面偶极子的两个介电层。界面偶极子将掺杂引入至纳米碳管的源极/漏极延伸部分。
搜索关键词: 形成 环绕 栅极 晶体管 方法
【主权项】:
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