[发明专利]含碘的热固性含硅材料、含该材料的极紫外线光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物、及图案形成方法有效
申请号: | 201911139299.8 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN111208710B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 荻原勤;渡边司;美谷岛祐介;金山昌广;三井亮 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;G03F7/00;G03F7/09 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及含碘的热固性含硅材料、含该材料的极紫外线光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物、及图案形成方法。本发明提供用于形成能够保持着上层抗蚀剂的LWR而贡献于感度提升的抗蚀剂下层膜的热固性含硅材料、含有该材料的含硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该组合物的图案形成方法。一种热固性含硅材料,其特征在于含有下列通式(Sx‑1)所示的重复单元、下列通式(Sx‑2)所示的重复单元、及下列通式(Sx‑3)所示的部分结构中的任一个以上。[化学式1] |
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搜索关键词: | 热固性 材料 紫外线 光刻 用抗蚀剂 下层 形成 组合 图案 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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