[发明专利]含碘的热固性含硅材料、含该材料的极紫外线光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物、及图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201911139299.8 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN111208710B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 荻原勤;渡边司;美谷岛祐介;金山昌广;三井亮 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;G03F7/00;G03F7/09
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及含碘的热固性含硅材料、含该材料的极紫外线光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物、及图案形成方法。本发明提供用于形成能够保持着上层抗蚀剂的LWR而贡献于感度提升的抗蚀剂下层膜的热固性含硅材料、含有该材料的含硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该组合物的图案形成方法。一种热固性含硅材料,其特征在于含有下列通式(Sx‑1)所示的重复单元、下列通式(Sx‑2)所示的重复单元、及下列通式(Sx‑3)所示的部分结构中的任一个以上。[化学式1]式中,R1为含有碘的有机基团。R2、R3分别独立地和R1相同、或为氢原子或碳数1~30的1价有机基团。
搜索关键词: 热固性 材料 紫外线 光刻 用抗蚀剂 下层 形成 组合 图案 方法
【主权项】:
暂无信息
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