[发明专利]一种可正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法在审
| 申请号： | 201911146652.5 | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN111303422A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海极紫科技有限公司 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;G03F7/039 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201805 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种正性光刻胶用，新型光敏聚酰亚胺树脂及其制备方法，该聚酰亚胺树脂的结构式中含有酸性基团——羧基，由于羧基的存在，该聚酰亚胺树脂在碱性显影液中具有一定的溶解性，其与重氮萘醌磺酸酯搭配可以制备碱显影的正性聚酰亚胺光刻胶。本发明公布的光敏聚酰亚胺树脂制备工艺简单，反应条件温和，易放大生产。由于该树脂在制备过程中已经完全亚胺化，所以光刻图形时不需高温固化处理，光敏树脂也无须低温保存，碱性水溶液中显影对环境友好。由该聚酰亚胺树脂所制备的光刻胶具有留膜率和对比度高、固化温度低、图形分辨率好、可室温保存等优点。该聚酰亚胺树脂的红外吸收光谱如图所示。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可正性 光刻 聚酰亚胺 树脂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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